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美極超聲波清洗機為您介紹超聲波清洗機的工藝流程：

1、研磨后的清洗

研磨是光學(xué)玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量（外觀(guān)和精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數企業(yè)的加工過(guò)程中會(huì )有漆片。其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉。在研磨過(guò)程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗設備大致分為兩種：

一種主要使用有機溶劑清洗劑，另一種主要使用半水基清洗劑。

一、有機溶劑清洗采用的清洗流程如下：

有機溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉干燥。

有機溶劑清洗劑的主要用途是清洗瀝青及漆片。以前的溶劑清洗劑多采用三氯乙烷或三氯乙烯。由于三氯乙烷屬ODS（消耗臭氧層物質(zhì)）產(chǎn)品，目前處于強制淘汰階段；而長(cháng)期使用三氯乙烯易導致職業(yè)病，而且由于三氯乙烯很不穩定，容易水解呈酸性，因此會(huì )腐蝕鏡片及設備。對此，國內的清洗劑廠(chǎng)家研制生產(chǎn)了非ODS溶劑型系列清洗劑，可用于清洗光學(xué)玻璃；并且該系列產(chǎn)品具備不同的物化指標，可有效滿(mǎn)足不同設備及工藝條件的要求。比如在少數企業(yè)的生產(chǎn)過(guò)程中，鏡片表面有一層很難處理的漆片，要求使用具備特殊溶解性的有機溶劑；部分企業(yè)的清洗設備的溶劑清洗槽冷凝管較少，自由程很短，要求使用揮發(fā)較慢的有機溶劑；另一部分企業(yè)則相反，要求使用揮發(fā)較快的有機溶劑等。

水基清洗劑的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是堿金屬氧化物，溶劑對其清洗能力很弱，所以鏡片加工過(guò)程中產(chǎn)生的研磨粉基本上是在水基清洗單元內除去的，故而對水基清洗劑提出了極高的要求。以前由于國內的光學(xué)玻璃專(zhuān)用水基清洗劑品種較少，很多外資企業(yè)都選用進(jìn)口的清洗劑。而目前國內已有公司開(kāi)發(fā)出光學(xué)玻璃清洗劑，并成功地應用在國內數家大型光學(xué)玻璃生產(chǎn)廠(chǎng)，清洗效果完全可以取代進(jìn)口產(chǎn)品，在腐蝕性（防腐性能）等指標上更是優(yōu)于進(jìn)口產(chǎn)品。

對于IPA慢拉干燥，需要說(shuō)明的一點(diǎn)是，某些種類(lèi)的鏡片干燥后容易產(chǎn)生水印，這種現象一方面與IPA的純度及空氣濕度有關(guān)，另一方面與清洗設備有較大的關(guān)系，尤其是雙臂干燥的效果明顯不如單臂干燥的好，需要設備廠(chǎng)家及用戶(hù)注意此點(diǎn)。

二、半水基清洗采用的清洗流程如下：

半水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥

此種清洗工藝同溶劑清洗相比的區別在于，其前兩個(gè)清洗單元：有機溶劑清洗只對瀝青或漆片具有良好的清洗效果，但卻無(wú)法清洗研磨粉等無(wú)機物；半水基清洗劑則不同，不但可以清洗瀝青等有機污染物，還對研磨粉等無(wú)機物有良好的清洗效果，從而大大減輕了后續清洗單元中水基清洗劑的清洗壓力。半水基清洗劑的特點(diǎn)是揮發(fā)速度很慢，氣味小。采用半水基清洗劑清洗的設備在個(gè)清洗單元中無(wú)需密封冷凝和蒸餾回收裝置。但由于半水基清洗劑粘度較大，并且對后續工序使用的水基清洗劑有乳化作用，所以第二個(gè)單元須市水漂洗，并且將其設為流水漂洗。

國內應用此種工藝的企業(yè)不多，其中一個(gè)原因是半水基清洗劑多為進(jìn)口，價(jià)格比較昂貴。

從水基清洗單元開(kāi)始，半水基清洗工藝同溶劑清洗工藝基本相同。在此不再贅述。

三、兩種清洗方式的比較

溶劑清洗是比較傳統的方法，其優(yōu)點(diǎn)是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循環(huán)使用；但缺點(diǎn)也比較明顯，由于光學(xué)玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕，均為封閉車(chē)間，溶劑的氣味對于工作環(huán)境多少都會(huì )有些影響，尤其是使用不封閉的半自動(dòng)清洗設備時(shí)。

半水基清洗是近年來(lái)逐漸發(fā)展成熟的一種新工藝，它是在傳統溶劑清洗的基礎上進(jìn)行改進(jìn)而得來(lái)的。它有效地避免了溶劑的一些弱點(diǎn)，可以做到無(wú)毒，氣味輕微，廢液可排入污水處理系統；設備上的配套裝置更少；使用周期比溶劑要更長(cháng)；在運行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑為突出的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)就是對于研磨粉等無(wú)機污染物具有良好的清洗效果，極大地緩解了后續單元水基清洗劑的清洗壓力，延長(cháng)了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運行成本。

它的缺點(diǎn)就是清洗的速度比溶劑稍慢，并且必須要進(jìn)行漂洗。

2、鍍膜前清洗

鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油（也稱(chēng)磨邊油，求芯也稱(chēng)定芯、取芯，指為了得到規定的半徑及芯精度而選用的工序）、手印、灰塵等。由于鍍膜工序對鏡片潔凈度的要求極為嚴格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時(shí)，還要考慮到他的腐蝕性等方面的問(wèn)題。 

鍍膜前的清洗一般也采用與研磨后清洗相同的方式，分為溶劑清洗和半水基清洗等方式。工藝流程及所用化學(xué)藥劑類(lèi)型如前所述。 

3、鍍膜后清洗 

一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗，其中接合前清洗（接合是指將兩片鏡片用光敏膠粘接成規定的形狀，以滿(mǎn)足無(wú)法一次加工成型的需求，或制造出較為特殊的曲率、透光率的一道工序）要求為嚴格。接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物，清洗難度不大，但對于鏡片表面潔凈度有非常高的要求，其清洗方式與前面兩個(gè)清洗工藝相同。